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  • 干法等离子体刻蚀-Plasma Etching

    干法等离子体刻蚀-Plasma Etching

    时间:2026-03-22 浏览量:4826

    干法等离子体刻蚀是以气体为主要媒介的刻蚀技术,包括化学刻蚀,物理刻蚀和反应离子刻蚀。干法刻蚀主要是利...

  • 树脂基复合材料低温等离子体处理提高粘接性-plasma

    树脂基复合材料低温等离子体处理提高粘接性-plasma

    时间:2026-03-22 浏览量:7628

    树脂基复合材料经过低温等离子体处理后,表面化学成分发生变化,表现在表面氧元素含量大大增加,根据化学键...

  • 石墨氧等离子体处-plasma

    石墨氧等离子体处-plasma

    时间:2026-03-22 浏览量:7791

    ​通过氧等离子处理, 石墨表面粗糙度增加,石墨表面接枝了C-OH、-COOH、C-O-C等官能团,在...

  • 膜材料的低温等离子体表面改性理论-plasma

    膜材料的低温等离子体表面改性理论-plasma

    时间:2026-03-22 浏览量:8864

    对于膜材料表面处理,等离子体处理具有处理效果均匀的优点,而且作用的深度仅在膜表面几纳米到几百纳米的范...

  • 等离子体表面处理技术增强材料粘接性原理-plasma

    等离子体表面处理技术增强材料粘接性原理-plasma

    时间:2026-03-21 浏览量:4961

    通过等离子体对材料表面进行处理,可同时改变材料表面的物理化学性质,包括表面粗糙度、极性官能团、表面自...

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